晶元光电强攻紫外LED

　　日前，晶元光电联合台湾仪科中心，以及中央大学薄膜技术中心，将先进材料石墨烯应用于UV-LED的制造技术，预期可提升UV-LED制造技术水平，达到与美、日大厂并驾齐驱的境界，推估年产值可逾3.6亿元新台币(折合人民币约7307万元)。

　　UV-LED可应用于农业、纸钞识别、树脂硬化、特殊生医等领域，市场前景看好，但是目前高功率UV-LED均使用氧化铟锡(ITO)做为透明导电膜，会发生散热不良与电流分布不均等问题，影响其发光效率。

　　仪科中心联合晶电及中央大学，取得科技部中部科学工业园区管理局高科技设备前瞻技术发展计划支持，共同执行“开发电浆辅助高温原子层沉积系统应用于UV-LED”计划，以更适合LED使用的透明电极材料石墨烯(graphene)取代氧化铟锡，希望能够克服UV-LED发光效率降低的问题。

　　此研究的关键技术有二，一是要让低温制程(约600℃)的石墨烯可以直接在白金薄膜上生成，以制作电极。中央大学薄膜技术中心李正中教授、郭倩丞助理教授团队负责开发石墨烯低温制程，仪科中心则负责让石墨烯直接在白金薄膜上生成(此即“电浆辅助高温原子层沉积系统”)。

　　第二项关键技术是让此电极可与LED的发光层完美结合，这部分由仪科中心和晶元光电共同研发。

　　这项合作初期将于晶光厂内进行测试与验证，待技术成熟后，将委托仪科中心与中央大学薄膜技术中心技术转移于设备厂商，进行相关设备制造。