2025国际显示技术大会盛大开幕，辰显光电全球首发Micro-LED创新产品「幻境InviLux」

　　2025国际显示技术大会拉开帷幕

　　3月22日，2025国际显示技术大会(ICDT)在厦门佰翔会展中心隆重开幕。自2017年首届大会成功举办以来，ICDT已成为全球显示技术领域的年度盛会，吸引了来自世界各地的显示技术精英齐聚一堂。辰显光电作为Micro-LED领军企业，受邀参加本届大会，致力于推动显示技术的国际交流与合作，助力中国显示技术从跟进、同步到引领的变革。

　　全球首发 Micro-LED新品「幻境InviLux」

　　3月23日，辰显光电在ICDT展会上重磅发布了全球首款TFT基Micro-LED纹理屏——「幻境InviLux」。 这款创新产品采用了微纳纹理覆层技术，能够呈现木纹、大理石纹、金属纹等多种纹理效果，并支持客制化设计，使其不仅是一块屏幕，更可以化身为墙面、家具或艺术装置，完美融入各类场景。与传统屏幕在息屏状态下的“黑块”视觉割裂感不同,「幻境InviLux」 在开机时呈现鲜亮画面，关机时则与背景无缝融合。辰显光电通过这款产品，再次彰显了其在显示技术领域的创新实力与对用户需求的深刻洞察。

　　辰显光电：开放合作，引领技术前沿

　　在同期举办的“第五届Micro/Mini LED显示关键技术路线研讨会”上，辰显光电副总经理兼CTO曹轩博士深入探讨了 Micro-LED封装拼接的技术挑战，以及辰显光电在这一领域的最新项目进展。

　　曹轩博士指出拼接缝隙是影响TFT基Micro-LED拼接屏视觉效果的一个重要因素。辰显光电通过建立拼接光学表征标准，优化边缘像素结构，采用玻璃侧壁保护工艺和封装材料优化等手段，将拼缝宽度控制在20微米以内，实现了近乎无缝的视觉效果。

　　而视角分屏问题是由于不同屏体的LED光形差异较大所导致的。这一问题的根源在于LED芯片制造过程中量子点厚度均匀性和芯片刻蚀控制的不一致性。辰显光电通过优化外延生长工艺、芯片刻蚀工艺以及采用Micro-Lens结构设计等手段，有效解决了这一问题。经过校准后，TFT基Micro-LED拼接屏在正视角和侧视角下均能保持一致的画面效果。

　　辰显光电持续引领Micro-LED技术革新与产业布局

　　本次展会上，辰显光电还展示了88英寸P0.5 TFT基Micro-LED拼接屏、全球首款TFT基Micro-LED透明屏等丰富产品，让行业看见辰显在Micro-LED领域领先的技术能力。辰显光电坚信，Micro-LED显示技术将以卓越的性能和广泛的应用场景，引领显示技术的新一轮革命，为全球显示行业带来更多可能性。